當(dāng)前位置：
光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。瀚宸掌握接觸式光刻、步進(jìn)式光刻、電子束光刻等多種光刻技術(shù)。
| 應(yīng)用材料 | ·硅片，玻璃，藍(lán)寶石，柔性材料等 |
| 光刻加工工藝 | ·接觸式光刻 最小圖形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm |
| ·步進(jìn)式光刻 投影比例1:5，最小圖形尺寸：0.35μm ，套刻精度≤0.15μm(X,Y)，曝光范圍 22*22mm | |
| ·電子束光刻 最小圖形尺寸：10nm，套刻精度：40nm，曝光范圍 < 直徑100mm |