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品牌產地品名型號應用TRANSENE美國鎳刻蝕液TFB標準鎳蝕刻液用于蒸鍍鎳薄膜TFG高純蝕刻液用于電沉積鎳薄膜，與銅、砷化鎵及其他三五族化合物相適應TYPE-1高純蝕刻液用于鎳、鎳鐵合金及某些不銹鋼金刻蝕液TFA高純度、低鈉、0.2um過濾的蝕刻液可用于半導體和微電子領域，蝕刻金和鎳。TFAC選擇性的蝕刻液可用于砷化鎵及其
品名型號規格包裝規格單位備注光刻膠1010250ml/瓶500ml/瓶1L/瓶瓶1040105010601070Microchem 光刻膠SU-8 5500ml/瓶1L/瓶4L/瓶瓶現貨SU-8 50SU-8 100SU-8 2000.5SU-8 2002SU-8 2005SU-8 2007SU-8 2010SU-8 2015SU-8 2025SU-8 2035SU-8 2050SU-8 2075SU-8 2100SU-8 2150SU-8 3010SU-8 3025SU-8 3035PMGI-SF3500ml/瓶瓶PMGI-SF
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